光刻机的设计方案是自己综合了未来几十年的技术方案后给出的最优设计方案。
用的都是最成熟最科学的设计，同时还保证了效率，精度以及可靠性。
而280纳米的曝光精度虽然比起2035年差得远，但是在这个年代，却是最先进的。
一旦这款光刻机生产出来，不仅仅可以生产VCD的解码芯片，还可以生产其他芯片，包括未来的2G手机芯片，电脑处理器等等。
这款光刻机一旦生产出来，就算三十年后，依然可以生产一些低端芯片。
既然要玩，就玩一次大的，玩一次漂亮的。虽然其中技术难关不少，但是自己脑海里却有整套的工艺流程，到时候只要人到齐，徐华盛相信很快这款机器就能制作出来。