。
再说，这么多年都熬过来了，还差这五年时间吗。
说想到这，领导的脸色的笑容更胜，然后冲着众人问道：“什么时候我们能够实现三纳米，甚至两纳米的光刻机技术。”
听到这个问题，袁守义想了一下，然后回答道：“想要实现三纳米甚至是两纳米的生产工艺，主要还是在光源上面，这一点还是要看吴总他们的那边的进度。”
哦，众人闻言都看向了吴浩。
呵呵，面对众人的目光，吴浩笑着说道：“主要还是复合式透镜组的精度，精度越高，极紫外光的波长也就越短，对于光线的控制也就越精准，所生产出来的芯片制程也就越高。
当然了，光刻机技术的发展不止是光源和透镜组这一块，还要其它一系列技术的发展和进步。简单来说，这就是一个复杂的系统性工程，需要各方面全面发展才行。
对于我们来说，现阶段我们要做的一方面是加强对于现阶段5纳米制程EUV光刻机的生产，使其能够满足我们国内芯片制造领域的发展和需求，解决芯片紧缺这个紧要问题。
虽然说相比于目前国际先进的3纳米和2纳米芯片还有一定的差距，但这个差距其实并不大。就现阶段来说，完全可以满足我们相关企业对于高端芯片的需求。
而另一方面，我们也需要吃透和消化5纳米制程EUV光刻机研制成功经验，为下一步研发更高制程EUV光刻机奠定基础。”
喜欢军工科技请大家收藏：（www。xiakezw。com）军工科技